韩国在EUV技术专利积极追赶,恐成为台积电未来潜在威胁

根据韩国媒体《BusinseeKorea》的最新报道指出,由于极紫外光(EUV) 曝光技术涉及新一代半导体的生产,而且影响逻辑芯片与内存的先进制程,这使得韩国方面不断强化其在端丽上的申请数量。根据韩国知识产权局(KIPO)的统计数据显示,2019年韩国企业或单位提出有关EUV专利的申请数量首次超越海外企业,这将成为韩国企业未来发展EUV技术与产品的利器。

报道指出,KIPO最新统计过去10年的专利申请报告指出,提交给KIPO有关于EUV曝光技术专利申请数量,在2014年为88件,在2018年达到55件,在2019年则是来到50件。其中,在2019年的50件专利申请其中,韩国企业或单位提交的数量为40件,海外企业则是提交10件的数量,这是韩国首次提交相关EUV相关专利数量超越海外,而且这样的情况2020年预计还将持续维持。

由于EUV技术关系着逻辑芯片与内存的先进制程发展,这使得韩国企业一直在力求其相关的专利申请数量能够追上海外企业。其中,EUV技术其中包含多项关键,例如多层反射镜,多层光罩,防护膜,光源等。这些重要的关键在过去10年中,包含韩国三星在内的全球重要科技公司都相继投入,进行研究和开发,以确保技术领先。最近,芯片代工场开始使用5纳米EUV曝光技术来生产相关逻辑芯片,就是其研究发展下的成果。

报道表示,如果以公司别来区分,全球6家主要针对EUV关键技术发展的企业,其相关专利的总申请量达到全部有关EUV专利申请量的59%。其中,德国卡尔蔡司占18%,韩国三星占15%,荷兰ASML占11%,韩国S&S Tech占8%,台积电占6%,韩国SK海力士为1%。

另外,从相关技术专利申请部分来分析,处理技术专利的申请量占32%,曝光设备技术的专利申请量占31%,光罩技术的专利量占28%,光罩的专利量则占9%。至于,在制程技术领域方面,三星电子的申领量占39%,台积电占15%,这意味着这两家公司就抢下了超过一半的比例。而在光罩领域方面,韩国S&S Tech占28%,日本Hoya占15%,韩国汉阳大学占10%,日本Asahi Glass也有10%的比例,韩国三星则为9%。

(首图来源:科技新报摄)

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