英伟达联手台积电、ASML、新思科技直指2纳米制程开发

GPU大厂英伟达 (NVIDIA) 于日前的GTC 2023宣布,将推出cuLitho函数库,并与包括台积电、ASML、新思科技 (Synopsys) 等半导体大厂合作,运用Hopper架构的NVIDIA H100 GPU,提升表达式微影技术的效率超过40倍。同时协助芯片厂提高产量、减少碳足迹,且为2纳米及更先进的制程发展奠定基础。而该消息宣布后,令台积电的竞争对手大为紧张,也希望积极布局相关联盟,积极对抗台积电加入的“英伟达联军”。

韩国媒体BusinessKorea报道指出,包括NVIDIA、台积电、ASML、新思科技在内的四家半导体大厂决定进一步合作,加速开发2纳米或更先进的芯片制造制程技术,这带给台积电的竞争对手三星很大冲击。尤其,其中包括了半导体EDA大厂新思科技,以及EUV龙头ASML在内,这使得这个组合令人惊艳。另外,NVIDIA在其中也扮演着关键的角色,因为通过在NVIDIA所设计的GPU上运行的cuLitho函数库,其产生的性能较当前的微影技术高出40倍,将可加速执行目前每年要用掉数百亿CPU小时来处理的大规模运算工作负载。

报道指出,NVIDIA创办人兼首席执行官黄仁勋表示,这种伙伴关系将使半导体制造厂能够增加产量,同时减少碳排放。同时,也将为发展2纳米或更小的先进技术奠定基础。另外,也媒体报道指出,这些半导体产业顶尖公司的合作,将有助于台积电2纳米或更小制程技术的发展。台积电总裁魏哲家也表示,这一发展将为半导体稳步进行制程微缩做出重要贡献。

另外,未来台积电不仅将加速2纳米技术的发展,也在加速2纳米芯片的大量生产。根据日本经济新闻日前报道表示,台积电已开始在新竹建设新工厂,预计将在此量产2纳米制程芯片。因此,对于这样的发展,韩国业界人士表示,三星方面需要创建这样的合作伙伴关系,借以给予三星支持,以使得三星电子能够保持在开发先进制程方面的优势。尤其,三星也制定了与台积电一样在2025年量产2纳米芯片的计划。此外,三星宣布也将于2027年开始量产1.4纳米先进节点制程,继续证明其相对于台积电的技术优势。

(首图来源:NVIDIA提供)