外媒报道，荷兰8日表示，半导体技术出口将有新管制，于夏天前实施。微影曝光设备大厂艾司摩尔 (ASML) 隔天宣布，深紫外光微影曝光设备 (DUV) 必须申请许可证才能出口。
ASML强调荷兰政府新出口管制措施并不针对所有沉浸式微影曝光设备，先进程度相对较低的沉浸式微影曝光设备已能满足以成熟制程为主的客户。市场人士表示，虽然荷兰政府新管制措施并没有说明针对哪国，但ASML声明明显是针对中国。
荷兰并未提及服务等会否有新限制。市场人士表示，已进口DUV大都还在关键零件寿命内，一般来说DUV必须6个月维护一次，替换或维修老化和损耗零件，只要正常维护保养，暂时对生产没有影响。
照市场解读，不受出口限制的DUV将停在对准精度2.5纳米以上设备。ASML已上市的DUV为最高达1.5纳米的NXT: 2050i。
对准精度指DUV制造芯片时，对准芯片和光罩图案时能达到的最高精度。对准精度一般以纳米为单位，纳米值越小，产品越先进。沉浸式微影曝光设备属光源193纳米产品，用于16~7纳米先进制程，业界广泛应用为45纳米以下成熟制程。
(首图来源：ASML)