韩国媒体报道，韩国三星已开始开极紫外光 (EUV) 护膜，以缩小与芯片代工竞争对手台积电的市场差距。
光罩护膜是极紫外光 (EUV) 微影曝光过程中的关键零部件，指的是在光罩上加装一层护膜，然后机器在上面搭建要在芯片上刻印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染，同时减少光罩的损坏。目前该领域的主要供应商是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech。
事实上，三星在Foundry Forum 2021上就宣布自研EUV护膜，2023年初则已自主开发出透光率达88%的EUV护膜。按照三星的说法，该款EUV护膜应该已经进行量产，这有助于其实现供应链的多样化和稳定。不过，三星对此还要继续进行开发，因为88%透光率的护膜并不是当前上品质绝佳的产品。
根据韩国媒体BusinessKorea报道，三星半导体研究所近期公布的一份招聘通知，显示三星正积极开发透光率为92%的EUV护膜。目前市场上也有透光率达到90%或以上的EUV护膜，其供应商一家是ASML，另外一家是S&S Tech，后者在2021年成功开发出透光率为90%的EUV护膜。
另外，三星已精开始针对下一代High-NA EUV护膜的研究，新一代EUV护膜将采用新材料，同时三星也将与外部机构合作，开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的EUV护膜。而且，三星也将推动自行开发的纳米石墨薄膜大量生产设施的设计。
报道指出，当前三星在全球芯片代工领域的主要竞争对手台积电从2019年开始，就使用了自己开发的EUV护膜，并且在2021年时宣布，其EUV护膜的产能相比2019年将提高20倍。有市场人士表示，三星推动EUV护膜的开发，是为了更快地赶上台积电。
(首图来源：ASML)