联华电子与美光科技今日宣布完成全球和解协议，双方将各自撤回向对方提出之诉讼，同时联电将向美光一次支付金额保密之和解金，双方并将共创商业合作机会。
美光科技为创新内存和存储空间解决方案的业界领导者，拥有超过40年的技术引领与创新经验及总数超过47,000件的全球专利，积极大幅投资于先进研发及制造。美光科技持续推动对于数据经济至关重要的各项创新，而知识产权权的保护则是美光科技赖以保持竞争力的重要基石。
联华电子为半导体芯片专工业的全球领导者之一，专注于逻辑及特殊技术，为跨越电子行业的各项主要应用提供高品质的芯片制造服务。联电现共有十二座芯片厂，月产能总计约80万片八英寸约当芯片。在各领域提供具有竞争力之产品及服务之际，联电将持续落实并优化有关营业秘密之保护与防免的政策与措施。
此案缘起于2016年5月间，联电经核准，与中国福建晋华签署合作协议，共同开发两代DRAM制程合作项目，第1代DRAM制程技术，在2018年9月依协议转移给晋华，并计划展开量产。
2017年起，美光开始在美国对联电与晋华控告，原任职台湾美光的员工跳槽到联电，涉嫌将美光制造技术泄露给联电，联电连带被判处罚金新台币1亿元，此刑事案仍进行中。
虽然这次双方和解金保密，但在去年的10月22日，美国司法部指控联电涉及侵害营业秘密案，联电提出建议量刑书状，罚金约6000万美元。