相较韩国半导体产业最早开始采用EUV曝光技术，台湾相关产业内存与芯片代工进程相对落后。但韩国媒体《BusinessKorea》报道，近期台湾半导体企业加紧投资EUV曝光技术，进一步扩大竞争优势。
目前投资台湾最大外商的美商内存大厂美光科技 (Micron)，除决定今年底美国总部安装ASML最新曝光设备NXE: 3600D，美光还计划在台中DRAM工厂安装相同EUV曝光设备。代表美光科技将在台湾生产第一颗EUV技术DRAM，并持续增加投资。
除了美光科技积极部署EUV曝光技术，全球DRAM产业第排名四大的南亚科技也于4月宣布，投资3,000亿元在新北市兴建含EUV曝光设备的DRAM产线，预计2024年量产运营。
芯片代工龙头台积电的EUV曝光设备产业影响力也有增加。今年第二季起，采用EUV曝光设备的7纳米及更先进制程技术占公司总营收49%，正从曝光设备厂商ASML采购更多EUV曝光设备，增加研发投入。包括台积电自行生产EUV光罩，以提升良率和制程效率。
韩国三星是全球首家采用EUV曝光技术的半导体企业，并在2019年首次量产，如今大规模发展EUV技术的还加上美光科技、台积电等台湾半导体企业。韩国市场专家指出，基础设施持续扩张，预计为台湾半导体产业带来更强大的竞争优势。
(首图来源：科技新报摄)