就在之前包括三星、SK海力士等韩国内存大厂开始激活EUV曝光设备进行内存的生产之后，现在美商美光科技现在准备也要加入采用EUV曝光设备的生产行列了。根据日前美光在财报会议上所说的，目前美光正跟EUV曝光大厂ASML展开采购谈判工作，预计2024年将开始生产采用EUV曝光设备所生产内存。
根据美光科技总裁兼首席执行官Sanjay Mehrotra在日前的财报会议上的说法，过去美光一直在关注EUV曝光设备用于生产上面的进展，而且实际上之前也参与了EUV技术的生产发展。而在观察到EUV曝光设备及整个生态系统统成熟之后，美光就开始会在产品规划中加入EUV曝光设备来进行内存的生产。
而在本次财报会议上，美光也已经在2021财年的的资本支出上略微提升到95亿美元的金额，其中就是目前已经开始跟ASML谈判购买EUV曝光设备的计划。不过，现在美光方面还没有公布细节。还有EUV曝光设备现阶段的供应吃紧，在芯片代工大厂台积电、三星方面因为采购的数量较多，使得美光即便已经与ASML完成惨购谈判，要正式取得设备则还要等等。
事实上，目前是台湾投资金额最大的外商美光，当前最新的内存生产技术并是不使用EUV曝光设备，而是采用上一代深紫外(DUV) 曝光设备来生产内存。而这对于目前领先全球市场占有率的韩国三星级SK海力士两家内存大厂来说，非常关注美光不使用EUV曝光设备成功开发出10纳米级的DRAM。因为ASML的EUV曝光设备每部造价高达1.5亿美元，生产的内存会有较高成本。但美光采用DUV曝光设备就能生产同等级内存产品，产品成本较便宜，也较竞争力将更具优势。而根据美光的计划，EUV曝光设备预计要到2024年才会导入，首发将会用于1-Gama的10纳米级制程内存上，而后面还会进一步扩展到更下一代的1- Delta的10纳米级内存生产中。
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