这设备30年前问世至今仍在使用,助ASML登上半导体微影曝光龙头

不论是极紫外光微影曝光设备(EUV) 或是深紫外光微影曝光设备( DUV),当前都被广泛用在逻辑芯片与内存生产上,可说是当前半导体制程中不可或缺的关键设备。而在这些设备的生产其中,荷兰商艾司摩尔 (ASML) 则在其中扮演了至关重要的角色。只是,当时落后竞争对手的ASML,如何能成为今天半导体微影曝光设备上的霸主,其关键就在当年的PAS 5500机台上。

ASML表示,1991年ASML首部PAS 5500机台完成出货之后,直到今天,PAS 5500仍是ASML最长青的微影设备,也是ASML用途最广泛的产品线之一。当时在PAS 5500出货之前,ASML在半导体微影市场位居第三,遥遥落在竞争对首Nikon和Canon之后。然而,PAS 5500的成功很快的让ASML晋升第二大微影设备商,并为ASML日后在微影市场的全球发展打下基础。

至于,为什么叫做PAS 5500呢?PAS 5500来自1970年代,当时飞利浦的研究员开始实验一系列的设备,而PAS 5500的全名“the Philips Automatic Stepper (PAS)”。而为了纪念这部机台的来源,也代表ASML与飞利浦长期的合作关系,因此取名为PAS 5500。

ASML强调,问世的30年后,每部PAS 5500都在半导体制程中拥有自己的故事。举例来说,已经25岁的PAS 5500/275,多年来被应用在内存(Memory) 以及RF模块(Radio Frequency Module) 制程中,但它最近刚被翻修,并重新销售到VR技术制程的最前线,展开新生活。尽管PAS 5500已经不再被应用在最先进的制程中,但它们具备成本低、体积小、简单以及稳定性,在许多利基 (Niche) 应用市场中是首选设备。为了持续支持使用这部机台的客户,当前ASML已将相关的客户支持服务期限延后至2030年以后。

(首图来源:官网)